„Fotolitográfia” változatai közötti eltérés
| [ellenőrzött változat] | [ellenőrzött változat] |
Tartalom törölve Tartalom hozzáadva
Typo Correction |
|||
10. sor:
=== Előkészítés ===
A hordozó, amin az eszközök kialakításra kerülhetnek, szennyezett lehet. A szerves és szervetlen szennyezők eltávolítására a modern [[tisztatér]]i félvezetőipari üzemekben sztenderd eljárásokat alkalmaznak, ilyen például a Radio Corporation of America üzemeiben kidolgozott RCA tisztítási eljárás. Az alkalmazott vegyi tisztítási és marási lépések az alkalmazástól is függnek. Egyes
A [[Vékonyréteg-leválasztás|rétegleválasztási]] lépésekhez a szilíciumlapkákat gyakran 150 °C-ra melegítik, melynek célja a felületre adszorbeálódott páracseppek elpárologtatása.<ref>{{Cite web|url=http://www.lithoguru.com/scientist/lithobasics.html|title=The Basics of Microlithography|accessdate=2017-12-08|last=Mack|first=Chris|work=www.lithoguru.com|language=en}}</ref>
| |||