„Fotolitográfia” változatai közötti eltérés

[nem ellenőrzött változat][nem ellenőrzött változat]
Tartalom törölve Tartalom hozzáadva
Opa (vitalap | szerkesztései)
Új oldal, tartalma: „A '''fotolitográfia''' egy elektronikai eljárás, melyet főleg a félvezetőiparban, mikroelektronikában használnak, például mikroprocesszorok gyártására...”
 
Syp (vitalap | szerkesztései)
Nincs szerkesztési összefoglaló
3. sor:
Az el­járás során egy a félvezető felületére felvitt speciális rétegen maszkot alakítanak ki, mely fény hatására eltávolíthatóvá válik, ezáltal a félvezetőn bizonyos miniatűr struktúrát hátrahagyva. Az így kialakított maszk bizonyos részeket el­szigetel, másokat elérhetővé tesz más technológiai eljárások számára. A mikroprocesszorok gyártása során számos ilyen, néhány tized [[mikron]] vastag réteg kerül egymás fölé, igen bonyolult áramköri struktúrát kialakítva ezzel.
 
A régebbi, kisebb integráltsági fokú eszközöknél a megvilágításra egyszerű fénysugarakat használtak, mivel azonban a [[fénysugár]] mérete[[hullámhossz]]a határt szab a kialakítható szerkezet méretének, a nano-méretekhez közelítve újabban a megvilágítást speciális optikai eszkö­zökkel, [[lézer]]rel, [[röntgen]]- illetve [[gammasugárzás|gammasugarakkal]] valamint [[elektron]]- és [[ion]]sugarakkal végzik, a minél kisebb méretek elérése érdekében. Az ezzel a módszerrel elméletileg elérhető legkisebb méret 35 nm körül van, melyet a becslések szerint (lásd még: [[Moore-törvény]]) [[2014]]-re érnek el. Ez alatt a méret alatt technológiaváltásra lesz szükség, az új technológia várhatóan a molekuláris [[nanotechnológia]] lesz.
 
==Forrás==