„Fotolitográfia” változatai közötti eltérés

A '''fotolitográfia''' egy olyan [[elektronika]]i gyártási eljárás, melyet főleg a [[félvezető]]iparban, mikroelektronikában használnak, például [[cPU|mikroprocesszorokmikroprocesszor]]ok gyártására. Az eljárás segítségével rendkívül kis méretű elektronikus [[áramkör]]ök készíthetők: az így készült vezetők vastagsága mindössze néhány tíz [[sI-prefixum|nanométer]]; ez az úgynevezett „csíkszélesség”.

Az el­járás során a félvezető felületére felvitt speciális rétegen maszkot alakítanak ki, mely fény hatására eltávolíthatóvá válik, ezáltal a félvezetőn bizonyos miniatűr struktúrát hátrahagyva. Az így kialakított maszk bizonyos részeket el­szigetel, másokat elérhetővé tesz más technológiai eljárások számára. A mikroprocesszorok gyártása során számos ilyen, néhány tized [[mikrométer (mértékegység)|mikron]] vastag réteg kerül egymás fölé, igen bonyolult áramköri struktúrát kialakítva ezzel.

A régebbi, kisebb integráltsági fokú eszközöknél a megvilágításra egyszerű fénysugarakat használtak, mivel azonban az alkalmazott [[hullámhossz]] határt szab a kialakítható szerkezet méretének, a nano-méretekhez közelítve újabban a megvilágítást speciális optikai eszkö­zökkel, [[lézer]]rel, [[röntgensugárzás|röntgen]]- illetve [[gamma-sugárzásgammasugárzás|gammasugarakkal]] valamint [[elektron]]- és [[ion]]sugarakkal végzik, a minél kisebb méretek elérése érdekében. Az ezzel a módszerrel elméletileg elérhető legkisebb méret 35 nm körül van, melyet a becslések szerint (lásd még: [[Moore-törvény]]) [[2014]]-re érnek el. Ez alatt a méret alatt technológiaváltásra lesz szükség, az új technológia várhatóan a molekuláris [[nanotechnológia]] lesz.