„Dópolás” változatai közötti eltérés

* Akceptor szennyezők (p-típus) 

** '''Bór: '''alacsony diffúziója jól kontrollálható dópolási eljárást tesz lehetővé, így a dópolt tartomány jól szabályozható. A CMOS iparban gyakran alkalmazzák. A dópolás történhet például bór-hidrid gáz diffúziójának alkalmazásával. Jó oldhatósága miatt nagy dópolási koncentrációjú félvezetőkben gyakran alkalmazzák.

** '''Nitrogén:''' hozzájárul a szilícium kristály hibamentes növekedéséhez és mivel gátolja a vakanciák adott helyen történő csoportosulását, így javítja a mechanikai jellemzőket.<ref name="crgrvlsi" />

** '''Gallium:''' többek között hosszúhullámú infravörös szilícium detektorokban alkalmazzák.<ref name="neutrondop">Guldberg, J. (Ed.). (2013). ''[https://books.google.hu/books?id=yMLkBwAAQBAJ&printsec=frontcover&hl=hu&source=gbs_ge_summary_r&cad=0#v=onepage&q&f=false Neutron-transmutation-doped Silicon.]'' Springer Science & Business Media.</ref> Mivel a gallium-dópolt szilíciumban hosszú a [[töltéshordozó élettartam|kisebbségi töltéshordozók élettartama]], mely ráadásul időben stabil, így felmerült a napelemekben és TFT kijelzőkben való alkalmazása is.<ref name="crgrvlsi" />

 

=== Egyéb félvezetők és gyakori szennyezőik ===

* [[Gallium-arzenid]]

** n-típus: tellúr, kén (As helyett), ón, szilícium, germánium (Ga helyett)