„Kémiai gőzfázisú leválasztás” változatai közötti eltérés
| [nem ellenőrzött változat] | [nem ellenőrzött változat] |
Tartalom törölve Tartalom hozzáadva
Nincs szerkesztési összefoglaló |
Nincs szerkesztési összefoglaló |
||
2. sor:
A CVD során a felületen [[adszorpció|adszorbeálódott]] atomok reakcióba lépnek, mely lehet például [[pirolízis]],{{h|Szepes|o=2}} [[Redoxireakció|oxidáció vagy reduckió]], [[hidrolízis]] stb. A kiinduló anyagok atomjainak reakciója következtében létrejövő egyes termékek alakítják ki a felületi réteget, míg más reakciótermékeket elszívással eltávolítanak.{{h|Fizipédia}}
==Mechanizmusa==
A kémiai gőzfázisú leválasztás során a különféle megvalósítások közös jellemzőit figyelembe véve az alábbi fizikai-kémiai lépések mennek végbe:
# A készülékbe bevezetik a kiinduló anyagokat gáz halmazállapotban, melyek atomjai a gáztérben a hordozó felületére jutnak.
# Az atomok a felületen adszorpcióval megkötődnek, de a felületen diffúzióval elmozdulhatnak.
# Az atomok a felületen összetalálkozva reakcióba léphetnek.
# A reakciótermékek egy része a felületen megkötődik és réteget alkot.
# A felületről deszorbeálódó, vagy a gáztérből nem lecsapódó anyagot a rendszerből elszívják.
== Típusai ==
A CVD-berendezéseket többféle szempont szerint különböztetik meg, többek között a vákuumtér jellemzői, a gáz bejuttatásának módja, a hordozó fűtése, stb. alapján.
==Megjegyzések==
| |||