A bór egy hasznos adalékanyag többek közt a [[szilícium]], a [[germánium]], és a [[szilícium-karbid]] félvezetőkben. Mivel eggyel kevesebb vegyértékelektronja van, mint a befogadó anyagnak, ezért [[elektronlyuk]]at, azaz p- típusú [[félvezető]]t eredményez. A hagyományosan módszer a bórt bejuttatására a magas hőmérsékleten végbemenő atomi diffúzió volt. Ebben az eljárásban szilárd {{chem|B|2|O|3}}-at, folyékony {{chem|BBr|3}}-at, vagy gáz-halmazállapotú bórt ({{chem|B|2|H|6}} vagy {{chem|BF|3}}) használtak fel. Azonban az 1970-es éveket követően, ezt felváltotta az [[ion-implementáció]], amely leginkább a {{chem|BF|3}}-on alapul.<ref>{{Cite book|pages = 51–54|title = Fundamentals of semiconductor manufacturing and process control|last = May|first = Gary S.|last2= Spanos|first2=Costas J.|publisher = John Wiley and Sons|year = 2006|isbn=0-471-78406-0}}</ref> A bór-triklorid gáz szintén fontos vegyület a félvezető iparban, azonban nem adalékolásra, hanem fémek és oxidjaik [[plazma-maratás]]ához használják.<ref>{{Cite book|pages = 39–60|title = Semiconductor industry: wafer fab exhaust management|first = J. Michael|last = Sherer|publisher = CRC Press|year = 2005|isbn = 1-57444-720-3}}</ref> A trietil-boránt gőzölő reaktorokba fecskendezik (injektálják), mint bórforrás. Ilyen eljárással készülnek például a bór-tartalmú kemény szénrétegek, a szilícium-nitrid - [[bór-nitrid]] filmek, illetve a [[gyémánt]]rétegek bóradalékolása.<ref>{{Cite book|page =44| title=Materials for information technology: devices, interconnects and packaging| author = Zschech, Ehrenfried; Whelan, Caroline and Mikolajick, Thomas | publisher =Birkhäuser| year = 2005| isbn = 1-85233-941-1}}</ref>
